在科研與工業(yè)檢測領域，對微觀結構的精確觀察和分析至關重要。奧林巴斯激光共聚焦顯微鏡OLS5100，以其獨特的設計和強大的功能，為科研人員和工業(yè)檢測人員提供了可靠的觀測工具。

產品細節(jié)與性能

OLS5100的X-Y掃描儀是其一大亮點。它通過將采用電磁感應MEMS諧振掃描儀的X軸與采用Galvano掃描振鏡的Y軸相結合，讓X-Y掃描儀定位于相對物鏡瞳鏡共軛的位置，從而實現(xiàn)具有較低掃描軌跡失真和較小光學像差的X-Y掃描。這種設計使得掃描圖像更加清晰、準確，為后續(xù)的數(shù)據分析提供了可靠的基礎。

設備配備的兩套光學系統(tǒng)（彩色成像光學系統(tǒng)和激光共焦光學系統(tǒng)）也十分出色。彩色成像光學系統(tǒng)使用白光LED光源和CMOS相機獲取彩色信息，激光共焦光學系統(tǒng)采用405納米激光二極管光源和高靈敏度光電倍增管獲得共焦圖像。淺焦深特性使其能夠用于測量樣品的表面不規(guī)則性，同時還能捕捉任意表面形狀，快速獲得可靠數(shù)據。

用材精良

為了確保設備的穩(wěn)定性和耐用性，OLS5100在選材上十分講究。機身外殼采用冷軋鋼板，表面經過防靜電噴涂處理，能抵抗實驗室常見化學試劑的腐蝕，同時減少靜電對電子元件的影響。內部光學部件采用高純度光學玻璃，經過精密加工和鍍膜處理，提高了光的透過率和成像質量。機械部件采用高強度合金材料，經過特殊處理，具有耐磨、耐腐蝕的特點，能夠保證設備的長期穩(wěn)定運行。

參數(shù)表與型號

OLS5100有多種型號可供選擇，不同型號在功能和應用場景上略有差異，用戶可根據自身需求進行挑選。

用途多樣

在半導體制造領域，OLS5100可用于檢測芯片表面的微觀缺陷、測量薄膜的厚度和均勻性等；在電子元器件檢測中，能夠觀察元器件的內部結構和表面形貌，分析其性能和質量；在材料科學研究方面，可對材料的微觀組織、晶體結構等進行觀察和分析，為材料的設計和改進提供依據。

使用說明

使用OLS5100時，首先將設備連接到穩(wěn)定的電源和合適的計算機系統(tǒng)。打開設備電源開關，等待設備初始化完成。將樣品放置在樣品臺上，根據樣品的大小和形狀調整樣品臺的位置和角度。通過計算機軟件設置掃描參數(shù)，如掃描范圍、分辨率、掃描速度等。點擊“開始掃描"按鈕，設備將自動進行掃描和圖像采集。掃描完成后，使用軟件對圖像進行處理和分析，如測量、標注、三維重建等。最后，保存分析結果和數(shù)據，關閉設備和計算機。